第278章 浸没式光刻机
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光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
最早的光刻技术出现于1822年,起初是法国人Joseph Nicephore niepce(涅普斯)试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕。他先将油纸放在一块玻璃片上,在上面涂满了一种在植物油中溶解的沥青,经过一段时间的暴晒之后,透光部分的沥青就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
这项发明出现的很早,将其使用于制造印刷电路板却已经是100多年后的故事了。
也就是二十世纪末。
随着发展,光刻机需要的光源波长,一降再降。
从二十世纪90年代开始,光刻机竞争的主战场成为了光源波长的竞争。
光源波长从365nm降低到了193nm,对应的制程也从800~250nm减小到130~65nm。
随着摩尔定律的推进,下一个节点157nm波长的光源却一直没做出来。
到了2002年7月,才有台积电的林姓博士在布鲁塞尔举办的157nm微影技术研讨会上提出了“浸润原理”的专题演讲。
在传统的光刻技术中,镜头与光刻胶之间的介质是空气,林本坚提出的这种方法就是在光刻胶上方加一层水,利用光通过液体介质后波长缩短来提高分辨率,这个方法后来被称为“浸没式光刻”,采用这种方法能够在不改变光刻机波长的情况下做出等效134nm的波长。
唐缺要弄的,也就是这个浸没式光源。
最好,是能在阿斯麦之前,做出浸没式光刻机。
确定了方案之后,两家欢喜,十几家愁。
他们都知道,如果这两个实验室真的建起来,相关专业的教授,有福了。
论文不愁。
科研经费,估计也不愁了。
唐缺单独了留下了那个光学相关的教授。
黄权坚。
“你对光刻机的光源知道多少?说一说。”
黄权坚推了推眼镜,简单说了说,基本就是上面的那些情况,唐缺都了解。
黄权坚又道:“现在是波长193nm的光源,按照定律,下一个是157nm的波长光源。听说尼康现在正在研究,你打算让我研究这个吗?”
他有些兴奋,如果唐缺真的舍得出
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